窒化ガリウムスパッタリングターゲットを用いたSi基板上エピタキシャル成膜と評価
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国立国会図書館デジタルコレクション
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 末元祐也上岡義弘召田雅実
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2021
- 出版年（W3CDTF）
- 2021
- 並列タイトル等
- Fabrication and characterization of epitaxial film on Si substrate with GaN sputtering target
- タイトル（掲載誌）
- 研究・技術報告
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 65
- 掲載巻
- 65