窒化ガリウムスパッタリングターゲットを用いたSi基板上エピタキシャル成膜と評価
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国立国会図書館デジタルコレクション
デジタルデータあり（東ソー）
書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 末元祐也上岡義弘召田雅実
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2021
- 出版年（W3CDTF）
- 2021
- 並列タイトル等
- Fabrication and characterization of epitaxial film on Si substrate with GaN sputtering target
- タイトル（掲載誌）
- 研究・技術報告
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 65
- 掲載巻
- 65
- 本文の言語コード
- jpn
- 国立国会図書館永続的識別子
- info:ndljp/pid/12884714
- コレクション（共通）
- コレクション（障害者向け資料：レベル1）
- コレクション（個別）
- 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
- 収集根拠
- オンライン資料収集制度
- 受理日（W3CDTF）
- 2023-06-02T10:47:18+09:00
- 保存日（W3CDTF）
- 2022-09-20
- 記録形式（IMT）
- application/pdf
- オンライン閲覧公開範囲
- 国立国会図書館内限定公開
- デジタル化資料送信
- 図書館・個人送信対象外
- 遠隔複写可否（NDL）
- 可
- 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）
- info:ndljp/pid/12884712
- 連携機関・データベース
- 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション