有機シランによる高品質・低温(≦120℃)プラズマCVD-SiN膜の開発

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/13763109

資料種別: 記事

著者: 髙洋志ほか

出版者: 大陽日酸

出版年: 2015-11-30

資料形態: デジタル

掲載誌名: 大陽日酸技報 (34)

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: 有機シランによる高品質・低温(≦120℃)プラズマCVD-SiN膜の開発
著者・編者: 髙洋志
鈴木克昌
辻岡典洋
出版事項: 日本 : 大陽日酸
出版年月日等: 2015-11-30
出版年（W3CDTF）: 2015-11-30
並列タイトル等: Development of high-quality low-temperature (≦120℃) plasma enhanced CVD-SiN films by organosilane
タイトル（掲載誌）: 大陽日酸技報
巻号年月日等（掲載誌）: (34)
掲載巻: (34)
本文の言語コード: jpn
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/13763109
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763109
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2024-10-11T08:47:47+09:00
保存日（W3CDTF）: 2015-12-16
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/9552946/www.tn-sanso-giho.com/report34.html
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/13763106
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763106
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp