有機シランによる高品質・低温(≦120℃)プラズマCVD-SiN膜の開発

• Material Type: 記事
• Title: 有機シランによる高品質・低温(≦120℃)プラズマCVD-SiN膜の開発
• Author/Editor: 髙洋志; 鈴木克昌; 辻岡典洋
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 大陽日酸
• Publication Date: 2015-11-30
• Publication Date (W3CDTF): 2015-11-30
• Alternative Title: Development of high-quality low-temperature (≦120℃) plasma enhanced CVD-SiN films by organosilane
• Periodical title: 大陽日酸技報
• No. or year of volume/issue: (34)
• Volume: (34)
• Text Language Code: jpn
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13763109; https://dl.ndl.go.jp/pid/13763109
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
• Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• Date Accepted (W3CDTF): 2024-10-11T08:47:47+09:00
• Date Captured (W3CDTF): 2015-12-16
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/9552946/www.tn-sanso-giho.com/report34.html
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/13763106; https://dl.ndl.go.jp/pid/13763106
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp