ジクロロシランおよびヘキサクロロジシランを用いた原子層堆積法による成膜反応メカニズムの研究

• 資料種別: 記事
• タイトル: ジクロロシランおよびヘキサクロロジシランを用いた原子層堆積法による成膜反応メカニズムの研究
• 著者・編者: 村田逸人; 鈴木克昌
• 出版事項: 日本 : 大陽日酸
• 出版年月日等: 2017-12
• 出版年（W3CDTF）: 2017-12
• 並列タイトル等: The study on reaction mechanism of atomic layer deposition to form thin films using dichlorosilane and hexachlorodisilane
• タイトル（掲載誌）: 大陽日酸技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: (36)
• 掲載巻: (36)
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/13763136; https://dl.ndl.go.jp/pid/13763136
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2024-10-11T08:47:47+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2018-03-28
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11062689/www.tn-sanso.co.jp/jp/rd/giho/report36.html
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/13763132; https://dl.ndl.go.jp/pid/13763132
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp