ジクロロシランおよびヘキサクロロジシランを用いた原子層堆積法による成膜反応メカニズムの研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13763136

Material type: 記事

Author: 村田逸人ほか

Publisher: 大陽日酸

Publication date: 2017-12

Material Format: Digital

Journal name: 大陽日酸技報 (36)

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Digital

Material Type: 記事
Title: ジクロロシランおよびヘキサクロロジシランを用いた原子層堆積法による成膜反応メカニズムの研究
Author/Editor: 村田逸人
鈴木克昌
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 大陽日酸
Publication Date: 2017-12
Publication Date (W3CDTF): 2017-12
Alternative Title: The study on reaction mechanism of atomic layer deposition to form thin films using dichlorosilane and hexachlorodisilane
Periodical title: 大陽日酸技報
No. or year of volume/issue: (36)
Volume: (36)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13763136
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763136
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2024-10-11T08:47:47+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2018-03-28
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11062689/www.tn-sanso.co.jp/jp/rd/giho/report36.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/13763132
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763132
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp

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