Atomic layer deposition process of titanium nitride using an ultra-dry hydrazine gas

表紙は所蔵館によって異なることがあります

インターネットで読む

国立国会図書館デジタルコレクション

Atomic layer deposition process of titanium nitride using an ultra-dry hydrazine gas

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/13763183

資料種別: 記事

著者: Murata Hayatoほか

出版者: 大陽日酸

出版年: 2021-03

資料形態: デジタル

掲載誌名: 大陽日酸技報 (39)

掲載ページ: -

すべて見る

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Atomic layer deposition process of titanium nitride using an ultra-dry hydrazine gas
著者・編者: Murata Hayato
Shimizu Hideharu
Andachi Keisuke
出版事項: 日本 : 大陽日酸
出版年月日等: 2021-03
出版年（W3CDTF）: 2021-03
並列タイトル等: 無水ヒドラジンを用いたTiN ALD(原子層堆積法)プロセス
タイトル（掲載誌）: 大陽日酸技報
巻号年月日等（掲載誌）: (39)
掲載巻: (39)
本文の言語コード: eng
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/13763183
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763183
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2024-10-11T08:47:47+09:00
保存日（W3CDTF）: 2021-04-16
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11664920/www.tn-sanso.co.jp/jp/rd/giho/report39.html
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/13763181
https://dl.ndl.go.jp/pid/13763181
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp