Research on ultraclean wet technology for ULSI silicon devices
図書館・個人送信サービスを利用する
収録元データベースで確認する
国立国会図書館デジタルコレクション
国立国会図書館の登録利用者(本登録)の方を対象とした、個人送信サービスで閲覧可能です。ただし、日本国外に居住している場合は、個人送信サービスを利用できません。
書店で探す
障害者向け資料で読む
目次
提供元:国立国会図書館デジタルコレクションヘルプページへのリンク
Table of Contents
p1
CHAPTER1 INTRODUCTION
p1
1.1.General Background
p1
1.2.Background of Wafer Cleaning Technology
p2
1.3.Objectives and Approach
p6
書店で探す
障害者向け資料で読む
- みなサーチ
- プレーンテキスト
みなサーチに登録・ログインで利用できます
書誌情報
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。
- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 金鐘秀 [著]
- 著者標目
- 金, 鐘秀 キン, ショウシュウ
- 並列タイトル等
- ULSI用高性能ウェットプロセスの研究 ULSIヨウ コウセイノウ ウェット プロセス ノ ケンキュウ
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成10年3月25日
- 授与年月日(W3CDTF)
- 1998
- 報告番号
- 甲第6437号
- 学位
- 博士 (工学)