A study of reactive ion beam etching process for optoelectronic micro-devices

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: A study of reactive ion beam etching process for optoelectronic micro-devices
• 著者・編者: 松谷晃宏 [著]
• 著者標目: 松谷, 晃宏 マツタニ, アキヒロ
• 数量: 冊
• 並列タイトル等: 極微光デバイス製作のための反応性イオンビームエッチングに関する研究 ゴク ビコウ デバイス セイサク ノ タメ ノ ハンノウセイ イオン ビーム エッチング ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成11年2月28日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 乙第3270号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-99-Y446
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000346490; http://id.ndl.go.jp/bib/000000346490
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

Chapter 1 Introduction

1.1 Background and History of Dry Etching Process

1.2 Problems in Dry Etching for Microstructure Optoelectronic Devices

1.3 Objective of This Study