表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合
• タイトルよみ: ヒョウメン カッセイカホウ ニ ヨル シリコン ウェハ ノ ジョウオン セツゴウ
• 著者・編者: 高木秀樹 [著]
• 著者標目: 高木, 秀樹 タカギ, ヒデキ
• 出版事項: [高木秀樹]
• 出版年月日等: [1999]
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成11年9月30日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1999
• 報告番号: 甲第14778号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-Q132
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000411905; http://id.ndl.go.jp/bib/000000411905
• 整理区分コード: 213

• DOI: 10.11501/3189942; https://doi.org/10.11501/3189942
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3189942; https://dl.ndl.go.jp/pid/3189942
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（障害者向け資料：レベル2）: プレーンテキスト
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 製作者: 国立国会図書館
• 受理日（W3CDTF）: 2011-12-06T14:16:45+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 請求記号: UT51-2001-Q132
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

目次

第1章 序論

1.1 研究の背景

1.2 本研究の目的

1.3 本論文の構成