ナノデバイス用シリコン酸化膜の界面評価に関する研究

• 資料種別: 記事
• タイトル: ナノデバイス用シリコン酸化膜の界面評価に関する研究
• 著者・編者: 岸野正剛
• 出版事項: 日本 : ひょうご科学技術協会
• 出版年月日等: 1998-07
• 出版年（W3CDTF）: 1998-07
• 数量: 容量 : i4kisino.pdf(253954bytes)
• タイトル（掲載誌）: 学術研究支援事業研究成果報告書
• 巻号年月日等（掲載誌）: 平成9年度
• 掲載巻: 平成9年度
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3495615; https://dl.ndl.go.jp/pid/3495615
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2012-06-02T00:41:34+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2005-01-20
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/237179/www.cast.jp/hyogosta/publish/josei/H9/index.html
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3495610; https://dl.ndl.go.jp/pid/3495610
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp