ナノデバイス用シリコン酸化膜の界面評価に関する研究

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Material Type: 記事
Title: ナノデバイス用シリコン酸化膜の界面評価に関する研究
Author/Editor: 岸野正剛
Publication, Distribution, etc.: 日本 : ひょうご科学技術協会
Publication Date: 1998-07
Publication Date (W3CDTF): 1998-07
Extent: 容量 : i4kisino.pdf(253954bytes)
Periodical title: 学術研究支援事業研究成果報告書
No. or year of volume/issue: 平成9年度
Volume: 平成9年度
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/3495615
https://dl.ndl.go.jp/pid/3495615
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2012-06-02T00:41:34+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2005-01-20
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/237179/www.cast.jp/hyogosta/publish/josei/H9/index.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/3495610
https://dl.ndl.go.jp/pid/3495610
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp