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電子書籍・電子雑誌大陽日酸技報
巻号(25)
塩素ガスを用いたGa...

塩素ガスを用いたGaN-MOCVD装置反応炉部品の洗浄装置(CLEANDEX-100)の開発

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塩素ガスを用いたGaN-MOCVD装置反応炉部品の洗浄装置(CLEANDEX-100)の開発

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3512964
資料種別
記事
著者
福田靖ほか
出版者
大陽日酸
出版年
2006-11-28
資料形態
デジタル
掲載誌名
大陽日酸技報 (25)
掲載ページ
-
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
福田靖
富田修康
折田隆
出版年月日等
2006-11-28
出版年(W3CDTF)
2006-11-28
数量
容量 : 02.pdf(573359bytes)
並列タイトル等
Development of the ex situ dry cleaning equipment (CLEANDEX-100) for reactor component of GaN-MOCVD using chlorine gases
タイトル(掲載誌)
大陽日酸技報
巻号年月日等(掲載誌)
(25)