DVScPを用いた次世代多層配線向け新規CuバリアSiC成膜プロセス技術

• 資料種別: 記事
• タイトル: DVScPを用いた次世代多層配線向け新規CuバリアSiC成膜プロセス技術
• 著者・編者: 中平順也; 稲石美明; 中尾慎一
• 出版事項: 日本 : 大陽日酸
• 出版年月日等: 2008-11-28
• 出版年（W3CDTF）: 2008-11-28
• 数量: 容量 : tnscgihou27_04.pdf(994198bytes)
• 並列タイトル等: A novel Cu diffusion barrier-SiC film deposited with DVScP for Cu multilevel interconnects of 45-nm node and beyond
• タイトル（掲載誌）: 大陽日酸技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: (27)
• 掲載巻: (27)
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3513016; https://dl.ndl.go.jp/pid/3513016
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2012-07-26T01:08:01+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2011-01-18
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1284606/www.tn-sanso-giho.com/report27.html
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3513012; https://dl.ndl.go.jp/pid/3513012
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp