Anhydrous hydrogen fluoride for selective etch processes : measurement and control of water and metallic impurities

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Anhydrous hydrogen fluoride for selective etch processes : measurement and control of water and metallic impurities

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3513043

資料種別: 記事

著者: Millward Andrewほか

出版者: 大陽日酸

出版年: 2009-11-30

資料形態: デジタル

掲載誌名: 大陽日酸技報 (28)

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Anhydrous hydrogen fluoride for selective etch processes : measurement and control of water and metallic impurities
著者・編者: Millward Andrew
Davia Dan
Wyse Carrie
出版事項: 日本 : 大陽日酸
出版年月日等: 2009-11-30
出版年（W3CDTF）: 2009-11-30
数量: 容量 : tnscgiho28_04.pdf(746914bytes)
並列タイトル等: 選択エッチングプロセス用無水フッ化水素に関する研究 : 水分及び金属不純物の管理と測定
タイトル（掲載誌）: 大陽日酸技報
巻号年月日等（掲載誌）: (28)
掲載巻: (28)
本文の言語コード: eng
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3513043
https://dl.ndl.go.jp/pid/3513043
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2012-07-26T01:08:01+09:00
保存日（W3CDTF）: 2011-01-18
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1284606/www.tn-sanso-giho.com/report28.html
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3513039
https://dl.ndl.go.jp/pid/3513039
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
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