Characteristics of recrystallized poly-Si film prepared by ELA of a-Si deposited on SiO2/SiN/glass using PE-CVD method

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国立国会図書館デジタルコレクション

Characteristics of recrystallized poly-Si film prepared by ELA of a-Si deposited on SiO2/SiN/glass using PE-CVD method

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/8771651

資料種別: 記事

著者: Naoya Kawamotoほか

出版者: 山口大学

出版年: 2001-10

資料形態: デジタル

掲載誌名: 山口大学工学部研究報告 52(1)

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Characteristics of recrystallized poly-Si film prepared by ELA of a-Si deposited on SiO2/SiN/glass using PE-CVD method
著者・編者: Naoya Kawamoto
Hisashi Abe
Naoto Matsuo
出版事項: 日本 : 山口大学
出版年月日等: 2001-10
出版年（W3CDTF）: 2001-10
タイトル（掲載誌）: 山口大学工学部研究報告
巻号年月日等（掲載誌）: 52(1)
掲載巻: 52(1)
本文の言語コード: eng
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/8771651
https://dl.ndl.go.jp/pid/8771651
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 国立大学
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00031
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2014-10-14T21:38:02+09:00
保存日（W3CDTF）: 2008-08-05
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/282311/memoirs.lib-e.yamaguchi-u.ac.jp/521/
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/8771650
https://dl.ndl.go.jp/pid/8771650
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
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