シリコン酸化膜のウェットエッチング速度

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/8829622

資料種別: 記事

著者: 都田昌之ほか

出版者: 山形大学

出版年: 2008-02-15

資料形態: デジタル

掲載誌名: 山形大学紀要. 工学 30

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: シリコン酸化膜のウェットエッチング速度
著者・編者: 都田昌之
山本康平
出版事項: 日本 : 山形大学
出版年月日等: 2008-02-15
出版年（W3CDTF）: 2008-02-15
並列タイトル等: Wet etching velocity of silicon oxide film
タイトル（掲載誌）: 山形大学紀要. 工学
巻号年月日等（掲載誌）: 30
掲載巻: 30
本文の言語コード: jpn
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/8829622
https://dl.ndl.go.jp/pid/8829622
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 国立大学
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00031
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2014-12-03T23:01:39+09:00
保存日（W3CDTF）: 2010-02-26
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/997667/www.lib.yamagata-u.ac.jp/kiyou/kiyoue/kiyoue-30-0/kiyoue-30-0-045to054.html
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/8829617
https://dl.ndl.go.jp/pid/8829617
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp