シリコン酸化膜のウェットエッチング速度

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/8829622

Material type: 記事

Author: 都田昌之ほか

Publisher: 山形大学

Publication date: 2008-02-15

Material Format: Digital

Journal name: 山形大学紀要. 工学 30

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Digital

Material Type: 記事
Title: シリコン酸化膜のウェットエッチング速度
Author/Editor: 都田昌之
山本康平
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 山形大学
Publication Date: 2008-02-15
Publication Date (W3CDTF): 2008-02-15
Alternative Title: Wet etching velocity of silicon oxide film
Periodical title: 山形大学紀要. 工学
No. or year of volume/issue: 30
Volume: 30
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/8829622
https://dl.ndl.go.jp/pid/8829622
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 国立大学
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00031
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2014-12-03T23:01:39+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2010-02-26
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/997667/www.lib.yamagata-u.ac.jp/kiyou/kiyoue/kiyoue-30-0/kiyoue-30-0-045to054.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/8829617
https://dl.ndl.go.jp/pid/8829617
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp

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