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イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化

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イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化

資料種別
図書
著者
研究代表者 山内和人
出版者
大阪大学工学部
出版年
1997.4
資料形態
ページ数・大きさ等
31 cm
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

[課題番号]: 07555040

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資料種別
図書
タイトルよみ
イオン ショウシャ ニ ヨル ハクマクヨウ キバン ノ ヒョウメン セイギョ : ケッショウセイ ハクマク サクセイ ノ テイオン プロセスカ
著者・編者
研究代表者 山内和人
著者標目
出版年月日等
1997.4
出版年(W3CDTF)
1997
大きさ
31 cm
出版地(国名コード)
ja