2002 7th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage

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資料種別: 図書
ISBN: 0965157776
タイトル: 2002 7th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage
著者・編者: Terence Hook, Koji Eriguchi, and Calvin T. Gabriel, editors
著者標目: International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
https://ci.nii.ac.jp/author/DA13150844
Hook, Terence
Eriguchi, Koji
Gabriel, Calvin T.
https://ci.nii.ac.jp/author/DA10596199
IEEE Electron Devices Society
https://ci.nii.ac.jp/author/DA01257512
出版事項: AVS
出版年月日等: c2002
出版年（W3CDTF）: 2002
大きさ: 28 cm
並列タイトル等: Two thousand and two seventh International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage
出版地（国名コード）: us
本文の言語コード: en
件名標目: Semiconductor wafers -- Defects -- Congresses
Semiconductors -- Effect of radiation on -- Congresses
Plasma etching -- Congresses
対象利用者: 一般
一般注記: "P2ID"-- on cover
"IEEE Catalog Number (softbound) 02TH8582" -- T.p. verso
Includes bibliographical references and index
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA62234616#entity
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA62234616 : BA62234616