異方性エッチングによる規則的マイクロテクスチャ面の創成

• 資料種別: 記事
• タイトル: 異方性エッチングによる規則的マイクロテクスチャ面の創成
• 著者標目: 市橋 健吾; 角田 陽
• 出版年月日等: 2011
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• タイトル（掲載誌）: 精密工学会学術講演会講演論文集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2011A 0
• 掲載巻: 2011A
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 363-364
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2011
• 出版事項（掲載誌）: The Japan Society for Precision Engineering
• 件名標目: wet etching; single crystal Si; SiO2; Si3N4; micro texture; 液相エッチング; 単結晶シリコン; 酸化シリコン; 窒化シリコン; マイクロテクスチャ
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.11522/pscjspe.2011a.0.363.0
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: Japan Link Center; https://japanlinkcenter.org/top; CiNii Articles
• NII論文ID: 130004660192

• 要約等: 高さが数μm程度で代表寸法が数μmの単位規則形状が規則的に配列したマイクロテクスチャ表面は,MEMSにおける摺動面の摩擦制御,光の特定波長反射面などさまざまな応用が期待できる．本研究では,SiO2あるいはSi3N4薄膜付きの単結晶Si基板について,薄膜をマスクとし,液相エッチングを用いて容易に任意の...