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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 普及版 (TECHNICAL LIBRARY. エレクトロニクスシリーズ)

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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 = Advanced Technologies for Functional Resist Materials and Process Optimization

普及版

(TECHNICAL LIBRARY. エレクトロニクスシリーズ)

国立国会図書館請求記号
PA441-R12
国立国会図書館書誌ID
033627827
資料種別
図書
著者
河合晃 監修
出版者
シーエムシー出版
出版年
2024.8
資料形態
ページ数・大きさ等
320p ; 26cm
NDC
578.4
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資料詳細

要約等:

フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説した1冊。(提供元: 出版情報登録センター(JPRO))

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目次

  • 【第I編 総論】

  • 第1章 リソグラフィープロセス概論

  • 1 はじめに

  • 2 リソグラフィープロセス

  • 3 3層レジストプロセス

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
978-4-7813-1774-8
タイトルよみ
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
著者・編者
河合晃 監修
普及版
著者標目
監修者 : 河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )典拠
出版年月日等
2024.8