五層非対称結合量子井戸の作製トレランスに関する理論検討 (光エレクトロニクス)

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五層非対称結合量子井戸の作製トレランスに関する理論検討

(光エレクトロニクス)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
10274366
Material type
記事
Author
井芹 有志ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2009-06-19
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 109(92) 2009.6.19
Publication Page
p.1~6
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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
井芹 有志
荒川 太郎
多田 邦雄 他
Alternative Title
Theoretical study on fabrication tolerance of five-layer asymmetric coupled quantum well
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
109(92) 2009.6.19
Volume
109
Issue
92