五層非対称結合量子井戸の作製トレランスに関する理論検討

• 資料種別: 記事
• タイトル: 五層非対称結合量子井戸の作製トレランスに関する理論検討
• 著者・編者: 井芹 有志; 荒川 太郎; 多田 邦雄 他
• シリーズタイトル: 光エレクトロニクス
• 著者標目: 井芹 有志; 荒川 太郎; 多田 邦雄
• 並列タイトル等: Theoretical study on fabrication tolerance of five-layer asymmetric coupled quantum well
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 109(92) 2009.6.19
• 掲載巻: 109
• 掲載号: 92
• 掲載ページ: 1～6
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2009-06-19
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 量子井戸; 五層非対称結合量子井戸; InGaAs; ヘテロ界面; 電界誘起屈折率変化; Quantum Well; Five-Layer Asymmetric Coupled Quantum Well; Heterointerface Abruptness; Electrorefractive effect
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: OPE2009-16
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 10274366; http://id.ndl.go.jp/bib/10274366
• 整理区分コード: 632