放射光を用いた高エネ...

放射光を用いた高エネルギーX線光電子分光法によるSi(100)酸化薄膜の深さ方向分析

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放射光を用いた高エネルギーX線光電子分光法によるSi(100)酸化薄膜の深さ方向分析

Call No. (NDL)
Z17-9
Bibliographic ID of National Diet Library
3926249
Material type
記事
Author
山本 博之ほか
Publisher
東京 : 日本分析化学会
Publication date
1996-02
Material Format
Digital
Journal name
分析化学 / 日本分析化学会 編 45(2) 1996.02
Publication Page
p.169~174
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Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

X線光電子分光法(XPS)における分析深さは,光電子の平均自由行程に依存する.光電子の平均自由行程はその運動エネルギーによって決まることから,放射光のようなエネルギー可変の励起源を用いた場合,分析深さは励起エネルギーに伴って変化する.これらの関係から,放射光を励起源として用いることによって,従来困難...

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Bibliographic Record

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Digital

Material Type
記事
Author/Editor
山本 博之
馬場 祐治
佐々木 貞吉
Periodical title
分析化学 / 日本分析化学会 編
No. or year of volume/issue
45(2) 1996.02
Volume
45
Issue
2
Pages
169~174
Publication date of volume/issue (W3CDTF)
1996-02