微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善

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Material Type: 博士論文
Title: 微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善
Author/Editor: 倉知郁生
Author Heading: 倉知郁生クラチイクオ
Degree grantor/type: 東京理科大学
Date Granted: 2016-03-18
Dissertation Number: 乙第1083号
Degree Type: 博士（工学）
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
DOI: 10.20604/00000216
Format (IMT): application/pdf
Source: 1083B （fulltext）
https://tus.repo.nii.ac.jp/record/239/files/1083B.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 東京理科大学 : 東京理科大学学術リポジトリ