半導体基板上への常誘電性および強誘電性弗化物薄膜の形成とデバイス応用に関する研究

Notes on use

Search by Bookstore

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

Tokyo Tech Research Repository
Digital
You can check the holdings of institutions and databases with which 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ） is linked at the site of 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）.
Tokyo Tech Research Repository

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 博士論文
Title: 半導体基板上への常誘電性および強誘電性弗化物薄膜の形成とデバイス応用に関する研究
Author/Editor: 會澤, 康治
AIZAWA, KOJI
Author Heading: 會澤, 康治
AIZAWA, KOJI
Publication Date: 1996-02
Publication Date (W3CDTF): 1996-02
Degree grantor/type: 東京工業大学
Date Granted: 1996-10-30
Dissertation Number: B2963
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:99000833
Format (IMT): application/pdf
Source: http://t2r2.star.titech.ac.jp/rrws/file/CTT100595313/ATD100000413/116512920.pdf （fulltext）
http://t2r2.star.titech.ac.jp/rrws/file/CTT100595313/ATD100000413/116512920.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 東京工業大学 : 東京工業大学リサーチリポジトリ