フォトエッチングによる酸化物半導体表面のナノポーラス加工

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Note (General)：: 研究報告書平成18年度-平成19年度科学研究費補助金 (基盤研究(C)　一般　無機材料・物性　課題番号18560653) 研究成果報告書

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Oekermann T. et al., Wall thickness and charge transport properties of nano-honetcomb TiO2 structures prepared by photoetching. Electrochimica Acta. 2007 52: 4325-4333
Sugiura T. et al., Effect of Photoetching on Photoinduced Hydrophilicity of Titanium Dioxide Film. Electrochemistry. 2008 76(2): 154-157
杉浦隆[ほか]. 光電気化学エッチングによる酸化チタン光電極の表面処理. Materials Integration. 2006 19(2): 15-20
杉浦隆[ほか]. 光エッチングによる酸化チタンのナノポーラス加工と高活性化. 表面技術. 2006 57(3): 176-180
杉浦隆[ほか]. フォトエッチングによるナノハニカム酸化チタンの創成. ㈱シーエムシー出版　（ハニカム構造の構造材料と応用技術）.

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Material Type: 文書・図像類
Title: フォトエッチングによる酸化物半導体表面のナノポーラス加工
Author/Editor: 杉浦, 隆
Author Heading: 杉浦, 隆
Publication Date: 2008-03
Publication Date (W3CDTF): 2008-03
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 機能性セラミックス
電気化学
微細加工
フォトエッチング
光触媒
酸化チタン
Target Audience: 一般
Note (General): 研究報告書
平成18年度-平成19年度科学研究費補助金 (基盤研究(C)　一般　無機材料・物性　課題番号18560653) 研究成果報告書
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 岐阜大学 : 岐阜大学機関リポジトリ