高密度プラズマガン及びDCマグネトロンスパッタ法を用いた低温・大面積基板用成膜プロセスとその膜特性に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 高密度プラズマガン及びDCマグネトロンスパッタ法を用いた低温・大面積基板用成膜プロセスとその膜特性に関する研究
Author/Editor: 小島, 啓安
Author Heading: 小島, 啓安
Publication Date: 2012-03-26
Publication Date (W3CDTF): 2012-03-26
Degree grantor/type: 名古屋大学
Date Granted: 2012-03-26
Dissertation Number: 甲第9642号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Note (General): 名古屋大学博士学位論文学位の種類:博士(工学) (課程) 学位授与年月日:平成24年3月26日
Format (IMT): application/pdf
Source: k9642.pdf （fulltext）
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/14577/files/k9642.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 名古屋大学 : 名古屋大学学術機関リポジトリ