日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth

• Material Type: 雑誌
• ISSN: 0385-6275
• ISSN-L: 0385-6275
• Title: 日本結晶成長学会誌
• Title Transcription: ニホン ケッショウ セイチョウ ガッカイシ
• Volume: 32(1)-33(5) 20050000-20060000
• Author Heading: 日本結晶成長学会 ニホン ケッショウ セイチョウ ガッカイ ( 00396133 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 大阪 : 日本結晶成長学会
• Publication Date: 2005-2006
• Publication Date (W3CDTF): 2005-2006
• Note (Publication, distribution, etc.): 出版地の変更あり
• Year and volume of publication: 1巻1号 (1974年11月)-[ ]
• Size: 26-30cm
• Alternative Title: Journal of the Japanese Association for Crystal Growth Journal of the Japanese Association for Crystal Growth; Journal of the Japanese Association for Crystal Growth; Journal of the Japanese Association of Crystal Growth
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: ZM35
• Note (General): 本タイトル等は最新号による; 刊行頻度の変更あり; 1巻1号からv. 21, no. 4までの並列タイトル: Journal of the Japanese Association of Crystal Growth
• Note (Cumulative Index): 総目次・総索引あり
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z15-339
• Related Material: 関連資料; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I025418784
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000029659; http://id.ndl.go.jp/bib/000000029659
• National Bibliography No. (JPNO): 00030083
• Cataloging Rule: National Diet Library Cataloging Rules for Serials
• Bibliographic Record Category (NDL): 131

Table of Contents

第36回結晶成長国内会議 NCCG-36

招待論文 SAW素子用LiNbO3,LiTaO3単結晶の開発、実用化 (小特集1:学会統合記念)

招待論文 SiCステップ制御エピタキシーとデバイス応用 (小特集1:学会統合記念)

招待論文 ヘテロエピタキシにおける無転位技術:マイクロチャネルエピタキシ--その可能性を探る (小特集1:学会統合記念)

小特集1:学会統合記念

小特集2:結晶成長の基礎--多様な展開

小特集:基板結晶

LPE成長法による大型・低転位GaN単結晶の育成 (小特集:基板結晶)

β-Ga2O3単結晶の育成と窒化処理によるGaN形成 (小特集:基板結晶)

ソルボサーマル法によるZnOバルク結晶作製とそのGaN結晶への適用 (小特集:基板結晶)

溶液成長法によるAlN単結晶の育成 (小特集:基板結晶)

小特集:Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開

バッファー成長法によるπ共役有機薄膜の高品質化 (小特集:Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)

極性構造から見たGaN薄膜成長におけるサファイア基板上低温バッファ層の機能 (小特集:Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)

バッファー層による酸化物ヘテロエピタキシーの格子不整合エンジニアリング (小特集:Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)

3族窒化物室温成長バッファー層の評価 (小特集:Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)

小特集:Si系単結晶・多結晶

太陽電池用Si系バルク多結晶の結晶成長および太陽電池特性--多結晶Siの融液成長過程のその場観察とバルク多結晶SiGeの特性評価 (小特集:Si系単結晶・多結晶)

Efficient Czochralski Solar-Grade Silicon Growth (小特集:Si系単結晶・多結晶)

Advancement of Numerical Investigation of a Silicon Czochralski Growth with Application of a Transverse Magnetic Field (小特集:Si系単結晶・多結晶)

過冷融液からのファセットSiデンドライトの成長機構--球状単結晶育成へ向けて (小特集:Si系単結晶・多結晶)

特集:バイオ・有機材料研究の最新動向

タンパク質結晶の品質に及ぼす不純物の影響 (特集:バイオ・有機材料研究の最新動向)

タンパク質の光誘起結晶化 (特集:バイオ・有機材料研究の最新動向)

糖転移酵素の結晶化--pp-GalNAc-T10 (特集:バイオ・有機材料研究の最新動向)

結晶成長を人工タンパク質で制御する (特集:バイオ・有機材料研究の最新動向)

特集:材料物性から見たフッ化物・酸化物単結晶の育成技術

Density and Surface Tension of Excimer Grade Molten Calcium Fluoride (特集:材料物性から見たフッ化物・酸化物単結晶の育成技術)

フッ化カルシウム結晶育成におけるスカベンジング技術 (特集:材料物性から見たフッ化物・酸化物単結晶の育成技術)

半導体リソグラフィー用CaF2単結晶 (特集:材料物性から見たフッ化物・酸化物単結晶の育成技術)

CaF2単結晶アニール後の複屈折シミュレーション (特集:材料物性から見たフッ化物・酸化物単結晶の育成技術)

第35回結晶成長国内会議(NCCG-35)

小特集:量子ドットの使い道

広帯域半導体光増幅器に向けたInP上InAs量子ドットのMOVPE成長 (小特集:量子ドットの使い道)

自己組織化量子ドット超格子と高効率太陽電池への応用 (小特集:量子ドットの使い道)

量子ドット蛍光体--形成メカニズムからデバイス化まで (小特集:量子ドットの使い道)

液滴エピタキシー法によるナノリング構造の自己形成 (小特集:量子ドットの使い道)

小特集:有機結晶の新展開

有機分子のエピタキシャル薄膜成長における光励起の影響 (小特集:有機結晶の新展開)

アルカリハライド基板上での銅フタロシアニンの結晶構造とエピタキシー (小特集:有機結晶の新展開)

アルカリハライド基板上での有機薄膜のエピタキシー (小特集:有機結晶の新展開)

分子長の異なるオリゴチオフェンの構造とFET (小特集:有機結晶の新展開)