アネルバ技報

• Material Type: 雑誌
• Title: アネルバ技報
• Title Transcription: アネルバ ギホウ
• Volume: 9-11 20020000-20050000(訂正版10共/別綴10)
• Author Heading: アネルバ株式会社 アネルバ カブシキ ガイシャ ( 01050058 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 府中 (東京都) : アネルバ
• Publication Date: 2002-2005
• Publication Date (W3CDTF): 2002-2005
• Year and volume of publication: Vol.1(1996)-v.11(2005)
• Size: 30cm
• Alternative Title: Technical reports Technical reports
• ISSN (Periodical Title): 1342-2979
• ISSN-L (Periodical Title): 1342-2979
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: ZM5
• Note (General): 本タイトル等は最新号による
• Note (Related Material): 継続前誌: 日電アネルバ技術報告
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z14-B382
• Continues: 継続後 : キヤノンアネルバ技報; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008035503
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000098969; http://id.ndl.go.jp/bib/000000098969
• Cataloging Rule: National Diet Library Cataloging Rules for Serials

Table of Contents

金属スピントロニクスの展開

PCM(Point Cusp Magnetic-Field)を搭載したプラズマモジュールの特徴について (PCM特集)

Point-Cusp-Magnetic Field(PCM)プラズマ源を用いたシリコン高速エッチング技術 (PCM特集)

PCM-PVD Moduleのφ300mmへの応用 (PCM特集)

MRAM量産用新規PVD装置C-7100

磁石内蔵形冷陰極逆マグネトロン真空計の開発

Cat-CVD法実用化のための要素技術開発

SLA-ICPエッチングモジュールの開発

スピントロニクス用デバイス薄膜作成装置の開発

CO/NH3による金属磁性材料の微細加工

PDPと寿命

LCD向け大型スパッタリング装置の開発

プラズマガンを用いたPDP用MgO薄膜形成装置

High-k、Metal Gate用成膜装置「C-7100GT」の開発--スパッタ成膜法を用いたゲートプロセスへの取り組み

CO/NH3、CH3OHを用いたトンネル磁気抵抗素子のドライエッチング技術