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(通号 7) 2000.05
- ディープサブミクロン世代のCMOS技術
p.5~9
- DFR酸化膜ドライエッチング装置
p.15~22
- 新型ラジカル源を用いた大面積シリコン酸化膜の作成
p.27~30
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 雑誌
- Title
- Title Transcription
- アネルバ ギホウ
- Volume
- (通号7) 2000年5月
- Author Heading
- アネルバ株式会社 アネルバ カブシキ ガイシャ ( 01050058 )Authorities
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2000
- Publication Date (W3CDTF)
- 2000
- Year and volume of publication
- Vol.1(1996)-v.11(2005)
- Size
- 30cm