Si表面とSi-Ge接合形成初期過程の角度分解電子分光による研究

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国立国会図書館デジタルコレクション

Si表面とSi-Ge接合形成初期過程の角度分解電子分光による研究

Call No. (NDL): UT51-62-E398
Bibliographic ID of National Diet Library: 000000178593
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13040413

Material type: 博士論文

Author: 長谷川繁彦 [著]

Publisher: -

Publication date: -

Material Format: Paper・Digital

Capacity, size, etc.: -

Name of awarding university/degree: 大阪大学,工学博士

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Note (General)：: 博士論文

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Bibliographic Record

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Paper Digital

Material Type: 博士論文
Title: Si表面とSi-Ge接合形成初期過程の角度分解電子分光による研究
Title Transcription: Si ヒョウメント Si-Ge セツゴウケイセイショキカテイノカクドブンカイデンシブンコウニヨルケンキュウ
Author/Editor: 長谷川繁彦 [著]
Author Heading: 長谷川, 繁彦ハセガワ, シゲヒコ
Extent: 冊
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 昭和62年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 1987
Dissertation Number: 甲第3594号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
UT31
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-62-E398
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000178593
http://id.ndl.go.jp/bib/000000178593
Bibliographic Record Category (NDL): 213