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Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method

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Material Type: 博士論文
Title: Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method
Author/Editor: 玉置純 [著]
Author Heading: 玉置, 純タマキ, ジュン
Alternative Title: RFスパッタリング法により調製した金属薄膜の触媒作用に関する研究 RF スパッタリングホウニヨリチョウセイシタキンゾクハクマクノショクバイサヨウニカンスルケンキュウ
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 昭和63年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 1988
Dissertation Number: 甲第3797号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
UT31
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-63-G163
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000197043
http://id.ndl.go.jp/bib/000000197043
Bibliographic Record Category (NDL): 213