高集積半導体素子製造におけるシリコンエピタキシャル成長技術の応用に関する研究

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高集積半導体素子製造におけるシリコンエピタキシャル成長技術の応用に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 高集積半導体素子製造におけるシリコンエピタキシャル成長技術の応用に関する研究
Title Transcription: コウシュウセキハンドウタイソシセイゾウニオケルシリコンエピタキシャルセイチョウギジュツノオウヨウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 長尾繁雄 [著]
Author Heading: 長尾, 繁雄ナガオ, シゲオ
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 昭和63年3月17日
Date Granted (W3CDTF): 1988
Dissertation Number: 乙第4409号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
UT31
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-63-G280
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000197160
http://id.ndl.go.jp/bib/000000197160
Bibliographic Record Category (NDL): 213