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博士論文

分子線エピタキシャル法による化合物半導体薄膜の成長過程 : InSb薄膜のヘテロ、ホモ-エピタキシャル成長

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分子線エピタキシャル法による化合物半導体薄膜の成長過程 : InSb薄膜のヘテロ、ホモ-エピタキシャル成長

Call No. (NDL)
UT51-63-F4
Bibliographic ID of National Diet Library
000000199561
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/11605781
Material type
博士論文
Author
矢田雅規 [著]
Publisher
-
Date granted
昭和62年10月15日
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Degree grantor and degree
早稲田大学,工学博士
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博士論文

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
分子線エピタキシャル法による化合物半導体薄膜の成長過程 : InSb薄膜のヘテロ、ホモ-エピタキシャル成長
Title Transcription
ブンシセン エピタキシャルホウ ニ ヨル カゴウブツ ハンドウタイ ハクマク ノ セイチョウ カテイ : InSb ハクマク ノ ヘテロ ホモ - エピタキシャル セイチョウ
Author/Editor
矢田雅規 [著]
Author Heading
矢田, 雅規 ヤタ, マサノリ
Degree Grantor
早稲田大学
Date Granted
昭和62年10月15日
Date Granted (W3CDTF)
1987
Dissertation Number
甲第735号
Degree Type
工学博士