Available with Digitized Contents Transmission Service
Find on the publisher's website
国立国会図書館デジタルコレクション
Available for viewing via the Digitized Contents Transmission Service for Individuals to official registered users of the NDL, who resides in Japan.
Search by Bookstore
Search by Bookstore
Bibliographic Record
You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.
- Material Type
- 博士論文
- Author/Editor
- 八木厚夫 [著]
- Author Heading
- 八木, 厚夫 ヤギ, アツオ
- Alternative Title
- MOS型電界効果トランジスタの低温に於ける電気伝導率の測定によるシリコン-二酸化シリコン界面の特性評価 MOSガタ デンカイ コウカ トランジスタ ノ テイオン ニ オケル デンキ デンドウリツ ノ ソクテイ ニ ヨル シリコン - ニサンカ シリコン カイメン ノ トクセイ ヒョウカ
- Degree grantor/type
- 学習院大学
- Date Granted
- 昭和56年3月7日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1981
- Dissertation Number
- 乙第34号
- Degree Type
- 理学博士