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光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究

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Material Type: 博士論文
Title: 光CVD法によるアモルファスシリコン系薄膜の堆積とその電気的、光学的性質の研究
Title Transcription: ヒカリ CVDホウニヨルアモルファスシリコンケイハクマクノタイセキトソノデンキテキコウガクテキセイシツノケンキュウ
Author/Editor: 鈴木和彦 [著]
Author Heading: 鈴木, 和彦スズキ, カズヒコ
Degree grantor/type: 北海道大学
Date Granted: 平成2年3月24日
Date Granted (W3CDTF): 1990
Dissertation Number: 乙第3740号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
UT31
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-90-F180
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000228619
http://id.ndl.go.jp/bib/000000228619
Bibliographic Record Category (NDL): 213