博士論文
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Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体へのイオン注入 : Si[+]とSn[+]注入GaAsのキャリヤ活性化機構

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Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体へのイオン注入 : Si[+]とSn[+]注入GaAsのキャリヤ活性化機構

Call No. (NDL)
UT51-90-K93
Bibliographic ID of National Diet Library
000000230980
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/11393346
Material type
博士論文
Author
沈泰彦 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
早稲田大学,工学博士
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博士論文

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title Transcription
3 - 5ゾク カゴウブツ ハンドウタイ エ ノ イオン チュウニュウ : Si+ ト Sn+ チュウニュウ GaAs ノ キャリヤ カッセイカ キコウ
Author/Editor
沈泰彦 [著]
Author Heading
沈, 泰彦 シム, テオン
Alternative Title
Ion implantation to Ⅲ-Ⅴ compound semiconductor : carrier activation of Si and Sn implanted GaAs
Degree grantor/type
早稲田大学
Date Granted
平成1年6月22日
Date Granted (W3CDTF)
1989
Dissertation Number
甲第801号