スパッタ法によるシリコン酸化膜の形成およびそのMOS素子への応用に関する研究
Available with Digitized Contents Transmission Service
Find on the publisher's website
国立国会図書館デジタルコレクション
Available for viewing via the Digitized Contents Transmission Service for Individuals to official registered users of the NDL, who resides in Japan.
Search by Bookstore
Read this material in an accessible format.
Search by Bookstore
Read in Disability Resources
- Mina Search
- プレーンテキスト
Registered users of Mina Search can download or stream this content.
Bibliographic Record
You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.
- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- スパッタホウ ニ ヨル シリコン サンカマク ノ ケイセイ オヨビ ソノ MOS ソシ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 陶山史朗 [著]
- Author Heading
- 陶山, 史朗 スヤマ, シロウ
- Degree grantor/type
- 九州大学
- Date Granted
- 平成2年7月24日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1990
- Dissertation Number
- 乙第4771号
- Degree Type
- 工学博士