Available with Digitized Contents Transmission Service

国立国会図書館デジタルコレクション

Available for viewing via the Digitized Contents Transmission Service for Individuals to official registered users of the NDL, who resides in Japan.

極短ゲートMOS電界効果トランジスタ用ゲート酸化膜と超薄膜SOI構造の研究

Notes on use

Search by Bookstore

Mina Search
- プレーンテキスト
  Registered users of Mina Search can download or stream this content.

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 博士論文
Title: 極短ゲートMOS電界効果トランジスタ用ゲート酸化膜と超薄膜SOI構造の研究
Title Transcription: ゴクタンゲート MOS デンカイコウカトランジスタヨウゲートサンカマクトチョウハクマク SOI コウゾウノケンキュウ
Author/Editor: 三木浩史 [著]
Author Heading: 三木, 浩史ミキ, ヒロシ
Degree grantor/type: 東京大学
Date Granted: 平成2年3月29日
Date Granted (W3CDTF): 1990
Dissertation Number: 甲第8567号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
UT31
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-90-T284
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000000235392
http://id.ndl.go.jp/bib/000000235392
Bibliographic Record Category (NDL): 213