Low energy plasma etching of GaAs using electron beam excited plasma system and its application

• Material Type: 博士論文
• Title: Low energy plasma etching of GaAs using electron beam excited plasma system and its application
• Author/Editor: 余金中 [著]
• Author Heading: 余, 金中 ユ, ジンチュン
• Alternative Title: 電子ビーム励起プラズマを用いたGaAsの低エネルギープラズマエッチングとその応用 デンシ ビーム レイキ プラズマ オ モチイタ GaAs ノ テイエネルギー プラズマ エッチング ト ソノ オウヨウ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成3年3月14日
• Date Granted (W3CDTF): 1991
• Dissertation Number: 乙第5391号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Alias of Author: Yu, Jin-zhong
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-91-G367
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000240302; http://id.ndl.go.jp/bib/000000240302
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

CONTENTS

Preface

Acknowledgments

1. Introduction

1-1. Low energy plasma etching