薄膜トランジスタ用多結晶シリコン膜形成法に関する研究
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Table of Contents
目次
第1章 序論
p1
1.1 本研究の目的と意義
p1
1.2 本研究の背景
p2
1.3 本研究の位置づけ
p21
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ハクマク トランジスタヨウ タケッショウ シリコンマク ケイセイホウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 中沢憲二 [著]
- Author Heading
- 中沢, 憲二 ナカザワ, ケンジ
- Degree grantor/type
- 金沢大学
- Date Granted
- 平成3年3月25日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1991
- Dissertation Number
- 乙第1146号
- Degree Type
- 学術博士