CVD法における気相プロセスと表面成膜プロセス : Si,SiC,WSix,TiO[2]生成の場合
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目次
緒言
p1
本論文の目的
p1
本論文の構成
p3
第1部 Poly-SiのCVDプロセス
p3
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- CVDホウ ニ オケル キソウ プロセス ト ヒョウメン セイマク プロセス : Si , SiC , WSix , TiO2 セイセイ ノ バアイ
- Author/Editor
- 霜垣幸浩 [著]
- Author Heading
- 霜垣, 幸浩 シモガキ, ユキヒロ
- Degree grantor/type
- 東京大学
- Date Granted
- 平成3年3月15日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1991
- Dissertation Number
- 甲第8838号
- Degree Type
- 工学博士