Formation and characterization of nitride films (TiN, ZrN) deposited by reactively RF sputtering

• Material Type: 博士論文
• Title: Formation and characterization of nitride films (TiN, ZrN) deposited by reactively RF sputtering
• Author/Editor: 金平 [著]
• Author Heading: 金, 平 チン, ピン
• Alternative Title: RF反応性スパッタ法による窒化物膜(TiN,ZrN)の形成とキャラクタリゼーション RF ハンノウセイ スパッタホウ ニ ヨル チッカブツマク (TiN , ZrN) ノ ケイセイ ト キャラクタリゼーション
• Degree grantor/type: 名古屋工業大学
• Date Granted: 平成4年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 1992
• Dissertation Number: 甲第85号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Alias of Author: Jin, Ping
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-92-F167
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000248302; http://id.ndl.go.jp/bib/000000248302
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

I.General Introduction

II.Internal Stress in Reactively Bias-Sputtered TiN Films

2.1.Introduction

2.2.Experimental