博士論文
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高清浄CVD法によるSi-Ge系薄膜の低温形成とその応用に関する研究

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高清浄CVD法によるSi-Ge系薄膜の低温形成とその応用に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-92-G334
Bibliographic ID of National Diet Library
000000249315
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3060528
Material type
博士論文
Author
加藤学 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
東北大学,工学博士
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Notes on use

Note (General):

博士論文

Table of Contents

  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 本研究の背景

    p1

  • 1.2 本研究の目的

    p3

  • 参考文献

    p4

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Bibliographic Record

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title Transcription
コウセイジョウ CVDホウ ニ ヨル Si-Geケイ ハクマク ノ テイオン ケイセイ ト ソノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
加藤学 [著]
Author Heading
加藤, 学 カトウ, マナブ
Degree grantor/type
東北大学
Date Granted
平成4年3月27日
Date Granted (W3CDTF)
1992
Dissertation Number
甲第4613号
Degree Type
工学博士