有機金属を用いた化合物半導体薄膜成長における反応機構に関する研究
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Table of Contents
目次
p1
1章 序論
p1
1.1 はじめに
p1
1.2 有機金属気相成長(MOCVD)法の現状
p2
1.3 MOCVD技術の課題と将来方向
p16
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ユウキ キンゾク オ モチイタ カゴウブツ ハンドウタイ ハクマク セイチョウ ニ オケル ハンノウ キコウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 真下正夫 [著]
- Author Heading
- 真下, 正夫 マシタ, マサオ ( 00736810 )Authorities
- Degree grantor/type
- 早稲田大学
- Date Granted
- 平成3年10月17日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1991
- Dissertation Number
- 乙第853号
- Degree Type
- 工学博士