アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究
• Title Transcription: アーク ホウデン ジョウチャクホウ ニ ヨル サンカブツ チョウデンドウ ハクマク ノ エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 野平博司 [著]
• Author Heading: 野平, 博司 ノヒラ, ヒロシ
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成3年6月30日
• Date Granted (W3CDTF): 1991
• Dissertation Number: 甲第2376号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-92-N12
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000252624; http://id.ndl.go.jp/bib/000000252624
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

目次

第1章 序論

1-1 超伝導薄膜の必要性

1-2 Y系高温超伝導物質の特徴