Study for plasma X-ray source and its application to X-ray lithography

• Material Type: 博士論文
• Title: Study for plasma X-ray source and its application to X-ray lithography
• Author/Editor: 有田浩 [著]
• Author Heading: 有田, 浩 アリタ, ヒロシ
• Alternative Title: プラズマX線源とX線リソグラフィへの応用に関する研究 プラズマ Xセンゲン ト Xセン リソグラフィ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 同志社大学
• Date Granted: 平成4年9月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1992
• Dissertation Number: 乙第98号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-92-R314
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000254493; http://id.ndl.go.jp/bib/000000254493
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

Abstract

Symbols

1 Introduction

1.1 Motive and Purpose