Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-discharge processing plasma using infrared diode laser absorption spectroscopy

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-discharge processing plasma using infrared diode laser absorption spectroscopy
• Author/Editor: 板橋直志 [著]
• Author Heading: 板橋, 直志 イタバシ, ナオシ
• Alternative Title: 赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プロセッシングプラズマ中のSiH[x]ラジカルに関する研究 セキガイ ハンドウタイ レーザー キュウシュウ ブンコウホウ オ モチイタ シラン グロー ホウデン プロセッシング プラズマチュウ ノ SiHx ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成4年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1992
• Dissertation Number: 甲第2608号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-92-S88
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000254669; http://id.ndl.go.jp/bib/000000254669
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

CONTENTS

CHAPTER1.INTRODUCTION

1.1 Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

1.2 Problems in the Previous SiHx(x=0～3)Studies

1.3 Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy