VLSIプロセスにおけるコンタクト界面反応,および耐熱性コンタクト形成方法に関する研究
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Table of Contents
目次
第1章 序論
p1
1.1 序
p1
1.2 研究の背景
p1
1.3 VLSIにおけるコンタクト形成に関する従来の研究の概要
p2
Holdings of Libraries in Japan
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- VLSI プロセス ニ オケル コンタクト カイメン ハンノウ , オヨビ タイネツセイ コンタクト ケイセイ ホウホウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 小川真一 [著]
- Author Heading
- 小川, 真一 オガワ, シンイチ
- Degree grantor/type
- 大阪大学
- Date Granted
- 平成4年9月22日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1992
- Dissertation Number
- 乙第5798号
- Degree Type
- 工学博士